بې اکسیجن مسد اکسیجن او ناپاکۍ د محتوا له مخې، انوکسک مس په نمبر ۱ او نمبر ۲ انوکسک مسو ویشل شوی دی. د نمبر ۱ اکسیجن نه پاک مسو پاکوالی ۹۹.۹۷٪ ته رسیږي، د اکسیجن مواد له ۰.۰۰۳٪ څخه زیات نه وي، د ناپاکۍ ټول مواد له ۰.۰۳٪ څخه زیات نه وي؛ د نمبر ۲ اکسیجن نه پاک مسو پاکوالی ۹۹.۹۵٪ ته رسیږي، د اکسیجن مواد له ۰.۰۰۵٪ څخه زیات نه وي، او د ناپاکۍ ټول مواد له ۰.۰۵٪ څخه زیات نه وي. د اکسیجن نه پاک مسو د هایدروجن د ککړتیا پدیده پرته، لوړ چالکتیا، پروسس او ویلډینګ فعالیت، د زنګ مقاومت او د تودوخې ټیټ فعالیت ښه دی. د اکسیجن د محتوا معیار لرونکي هیوادونه په بشپړ ډول یو شان ندي، ځینې توپیرونه شتون لري. OFC: د فلزي مسو د ۹۹.۹۹۵٪ پاکوالي سره عموما د آډیو تجهیزاتو، ویکیوم بریښنایی وسیلو، کیبلونو او نورو بریښنایی او بریښنایی کارونې کې کارول کیږي. د دوی په منځ کې، LC-OFC: پاکوالی له 99.995٪ څخه پورته او OCC: پاکوالی له 99.996٪ څخه پورته دی، او په PC-OCC او UP-OCC، او نورو ویشل شوی دی. د UP-OCC ټیکنالوژۍ لخوا جوړ شوی واحد کرسټال اکسیجن فری مسو غیر مستقیم، لوړ پاکوالی، د زنګ مقاومت او خورا ټیټ بریښنایی خنډ دی، کوم چې تار د لوړ سرعت او لوړ کیفیت سیګنال لیږد لپاره مناسب کوي.
په کلکه توپیر وکړئ، د اکسیجن څخه پاک مس باید په عمومي اکسیجن څخه پاک مس او د لوړ پاکوالي څخه پاک اکسیجن څخه پاک مس وویشل شي. د عمومي اکسیجن څخه پاک مس د بریښنا فریکونسي کور انډکشن فرنس کې بوی کیدی شي، د لوړ پاکوالي څخه پاک اکسیجن څخه پاک مس د بوی کول باید په ویکیوم انډکشن فرنس کې ترسره شي. کله چې د نیمه دوامداره کاسټینګ میتود غوره شي، د ویلې کولو فرنس او ساتلو فرنس کې د ویلې کولو تصفیه پروسه د وخت محدودیتونو څخه پاکه کیدی شي. دوامداره کاسټینګ توپیر لري. د مایع مس کیفیت نه یوازې د ویلې کولو فرنس او ساتلو فرنس د تصفیه کولو کیفیت پورې اړه لري، بلکه د ټول سیسټم او ټولې پروسې ثبات پورې هم اړه لري. د دې لپاره چې ویلې کول ککړ نه شي، د اکسیجن څخه پاک مس د بوی کول عموما د بوی کولو او تصفیه کولو هیڅ اضافه طریقه نه غوره کوي، د ویلې کولو حوض سطحه د چارکول پوښل او د بیا رغونې فضا لخوا رامینځته شوی د بوی کولو فضا نړیوال انتخاب دی.
د پوسټ وخت: اکتوبر-۱۹-۲۰۲۲