काटेकोरपणे फरक करा,ऑक्सिजन मुक्त तांबेसामान्य आणि उच्च शुद्धता असलेल्या अॅनारोबिक तांब्यामध्ये विभागले पाहिजे. सामान्य ऑक्सिजन मुक्त तांबे पॉवर फ्रिक्वेन्सी कोर इंडक्शन फर्नेसमध्ये वितळवता येतो, तर उच्च शुद्धता असलेल्या ऑक्सिजन मुक्त तांबे व्हॅक्यूम इंडक्शन फर्नेसमध्ये वितळवता येतो.
जेव्हा अर्ध-निरंतर कास्टिंग वापरले जाते, तेव्हा वितळणाऱ्या भट्टी आणि होल्डिंग भट्टीमध्ये वितळण्याची शुद्धीकरण प्रक्रिया वेळेच्या बंधनांपासून मुक्त असू शकते. सतत कास्टिंग वेगळे असते. द्रव तांब्याची गुणवत्ता केवळ वितळणाऱ्या भट्टी आणि होल्डिंग भट्टीच्या शुद्धीकरण गुणवत्तेवर अवलंबून नसते, तर संपूर्ण प्रणाली आणि संपूर्ण प्रक्रियेच्या स्थिरतेवर देखील अवलंबून असते.
वितळलेले तांबे दूषित होऊ नये म्हणून, ऑक्सिजन मुक्त तांबे वितळवण्याच्या प्रक्रियेत सामान्यतः वितळवण्याच्या आणि शुद्धीकरणाच्या मार्गात कोणतेही अ‍ॅडिटिव्ह वापरले जात नाहीत, वितळलेल्या तलावाचा पृष्ठभाग कोळशाने झाकलेला असतो आणि परिणामी तयार होणारे कमी करणारे वातावरण हे सर्वात जास्त वापरले जाणारे वितळणारे वातावरण असते.
इंडक्शन इलेक्ट्रिक फर्नेस
ऑक्सिजनशिवाय तांबे वितळवण्यासाठी असलेल्या इंडक्शन फर्नेसमध्ये चांगली सीलिंग असणे आवश्यक आहे.
अॅनारोबिक तांबे वितळविण्यासाठी कच्चा माल म्हणून उच्च दर्जाचा कॅथोड तांबे वापरावा. उच्च शुद्धता असलेला ऑक्सिजन मुक्त तांबे वितळविण्यासाठी कच्चा माल म्हणून उच्च शुद्धता असलेला कॅथोड तांबे वापरावा. जर तांबे कॅथोड भट्टीत प्रवेश करण्यापूर्वी वाळवले आणि गरम केले तर ते त्याच्या पृष्ठभागावरील ओलावा किंवा ओलसर हवा काढून टाकू शकते.
ऑक्सिजनमुक्त तांबे वितळवताना, भट्टीतील वितळलेल्या तलावाच्या पृष्ठभागावर असलेल्या कोळशाच्या थराची जाडी सामान्य शुद्ध तांबे वितळवताना दुप्पट असावी आणि कोळशाचे वेळेत अद्यतन करणे आवश्यक आहे. कोळशाच्या मल्चिंगचे अनेक फायदे आहेत, जसे की इन्सुलेशन, एअर आयसोलेशन आणि रिडक्शन, परंतु त्याचे काही तोटे देखील आहेत. उदाहरणार्थ, कोळसा आर्द्र हवा शोषण्यास किंवा थेट पाणी शोषण्यास सोपा आहे, ज्यामुळे द्रव तांब्याला मोठ्या प्रमाणात हायड्रोजन चॅनेल शोषणे शक्य होते.
कोळसा किंवा कार्बन मोनोऑक्साइड क्युप्रस ऑक्साईड कमी करू शकतात, परंतु हायड्रोजन पूर्णपणे शक्तीहीन आहे. म्हणून, भट्टीत घालण्यापूर्वी कोळसा काळजीपूर्वक निवडला पाहिजे आणि कॅल्साइन केला पाहिजे.
पोस्ट वेळ: नोव्हेंबर-३०-२०२२